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氧化铪薄膜膜厚标准物质 Thin film thickness CRM of HfO2
图片仅供参考,具体产品以实物为准!

氧化铪薄膜膜厚标准物质 Thin film thickness CRM of HfO2

GBW13980
Thin film thickness CRM of HfO2
¥ 4400.0
¥ 4400.0
每包装为一片,20mm×20mm
中国计量院
特性 特性值 扩展不确定度(k=2) 表面层 (1.86) / HfO2层 4.76 0.04 Al2O3层 (9.39) / SiO2层 (0.65) /
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氧化铪薄膜膜厚标准物质介绍:

浓度/纯度/标准值:特性 特性值 扩展不确定度(k=2) 表面层 (1.86) / HfO2层 4.76 0.04 Al2O3层 (9.39) / SiO2层 (0.65) /
使用注意事项:样品开封使用应保证取样工具等洁净避免沾污。建议本标准物质开封后用于一次检定/校准活动,在确保使用后无变形、无污染时可多次使用,但其量值仅可作为期间核查。
特征形态:固态
主要分析方法:纳米薄膜厚度校准装置([2014]国量标计证第273号)
定值单位:中国计量科学研究院
规格:每包装为一片,20mm×20mm
定级证书量值信息:
标准值扩展不确定度(k=2)单位CAS备注
表面层(1.85)厚度 (nm)
HfO24.730.04厚度 (nm)
Al2O3(9.41)厚度 (nm)
SiO2(0.59)厚度 (nm)

应用领域:仪器检定/校准用标准物质/仪器检定/校准用标准物质
保存条件:真空包装,阴凉、干燥处存放。
研制单位名称:中国计量科学研究院

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