标准物质/2种混合标准溶液-铝硅Al,Si/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
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标准物质/3种混合标准溶液-铝硅钛Al,Si,Ti/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸+tr.盐酸
NCS148420 | 50mL
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标准物质/5种混合标准溶液-钠铝硅钙铁Na,Al,Si,Ca,Fe/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸+tr.盐酸
NCS148917 | 50ml
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标准物质/4种混合标准溶液-铝硅钛铁Al,Si,Ti,Fe/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸
NCS1481057 | 50ml
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标准物质/4种混合标准溶液-钠铝硅钙Na,Al,Si,Ca/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸
NCS181047 | 50mL
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标准物质/3种混合标准溶液-铝钙钛Al,Ca,Ti/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸+tr.盐酸
NCS181096 | 50ml
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标准物质/7种混合标准溶液-硼镁铝硅钾钙钛B,Mg,Al,Si,K,Ca,Ti/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
NCS148489 | 50mL
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标准物质/4种混合标准溶液-镁铝钛锆Mg,Al,Ti,Zr/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
NCS148294 | 50mL
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GB/T 20975.25-2020《铝及铝合金化学分析方法 第25部分：元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》
• Si检出限(LOD)：0.0005% (质量分数)
• Si定量限(LOQ)：0.0015%
• Al检出限：0.003%
• Al定量限：0.01%
1. 每批次带国家有证标准物质(CRM)，类型需与实际样品基质匹配
2. 平行样数量≥10%，相对偏差≤5%
3. 加标回收率控制：85%～115%
4. 每20个样品插入空白对照
1. 样品前处理：称取0.1g试样，加入6mL HCl+2mL HNO₃+1mL HF，微波消解
2. 介质匹配：定容介质含10%硝酸+痕量盐酸+氢氟酸
3. 仪器参数：RF功率1150W，雾化气流量0.7L/min，Si分析线251.611nm，Al分析线396.152nm
4. 干扰校正：采用干扰系数法消除Fe、Mn等元素的光谱干扰
• 氢氟酸处理后的样品必须使用耐HF进样系统（铂金或PFA材质）
• 硅标准溶液需现配现用，储存不超过24小时
• 检测后立即用5%硼酸溶液冲洗进样系统，防止HF腐蚀
GB/T 14849.4-2014《工业硅化学分析方法 第4部分：元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》
• Al检出限：0.0008%
• Al定量限：0.0025%
• 其他元素LOD：0.0003%～0.002%
1. 使用YS/T 1171工业硅标样，每批次≥2个浓度水平
2. 精密度控制：RSD＜3%（n=7）
3. 空白平行试验：≤0.0005%
4. 校准曲线R²≥0.9995
1. 样品溶解：0.2g样品+5mL HF+5mL HNO₃，水浴加热至完全溶解
2. 介质控制：最终介质含10%硝酸+0.5%氢氟酸
3. 基体匹配：标准系列溶液需含等量高纯硅基体
4. 谱线选择：Al 396.153nm（主），Si 251.611nm（需扣除背景干扰）
• 必须使用塑料容量瓶定容，避免玻璃器皿溶出铝污染
• 高硅样品需完全溶解，防止硅酸聚合导致结果偏低
• 当Al含量＜0.01%时，需采用标准加入法
以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！