标准物质/3种混合标准溶液-锂锗铑Li,Ge,Rh/介质:10%HNO3
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标准物质/3种混合标准溶液-锗铑铼Ge,Rh,Re/介质:10%HNO3+tr.HCl+tr.HF
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标准物质/4种混合标准溶液-钪锗铑铼Sc,Ge,Rh,Re/介质:10% HNO3
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标准物质/5种混合标准溶液-锂钪锗铑铼Li,Sc,Ge,Rh,Re
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标准物质/5种混合标准溶液-铋锗铟锂铑Bi,Ge,In,Li,Rh
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标准物质/5种混合标准溶液-钪锂铟锗铑Sc,Li,In,Ge,Rh
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标准物质/5种混合标准溶液-铑锗铼铟锂Rh,Ge,Re,In,Li
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标准物质/3种混合标准溶液-锗铑铼Ge,Rh,Re
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2. 采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)直接测定
3. 使用内标法校正基体效应和仪器漂移
2. 使用有证标准物质进行准确度控制(回收率85%-115%)
3. 连续校准验证(CCV)每10个样品1次,偏差≤10%
2. 内标加入:测试前加入铟(In)、铋(Bi)等内标元素
3. 仪器校准:用含Li、Ge、Rh的混合标准溶液建立校准曲线
4. 干扰校正:通过碰撞反应池消除多原子离子干扰
2. 铑(Rh)需监测氧化物干扰(RhO+/Rh+比值<3%)
3. 高盐样品需稀释或采用标准加入法
2. 样品经硝酸酸化后直接进样测定
3. 采用标准曲线法进行定量分析
2. 平行样相对偏差≤20%
3. 每20个样品插入1个质控样
2. 使用调谐液优化仪器灵敏度、氧化物指标
3. 校准曲线需包含至少5个浓度点(含空白)
2. 锗(Ge)、铑(Rh)可参照但需验证方法适用性
3. 高硬度水样需检查钙、镁等产生的质谱干扰
2. ICP-MS测定时采用内标校正(Sc、Y、In、Tb)
3. 使用碰撞/反应池技术消除干扰
2. 加标回收率控制在80%-120%
3. 每批样品需带标准参考物质
2. 采用程序控温微波消解(180℃保持20min)
3. 消解后赶酸至近干,用5%硝酸定容
2. 铑(Rh)需监测钌(Ru)的干扰(Rh103/Ru101比值)
3. 含有机质样品需增加消解程序
以上信息仅供参考,请以相应标准的原文为准!