标准物质/7种混合标准溶液-硅磷铬锰镍铜钼Si,P,Cr,Mn,Ni,Cu,Mo/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
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标准物质/7种混合标准溶液-硅磷铬锰镍铜钼Si,P,Cr,Mn,Ni,Cu,Mo/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸
NCS1453307 | 50mL
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标准物质/11种混合标准溶液-铝硅磷钛钒铬锰钴镍铜钼Al,Si,P,Ti,V,Cr,Mn,Co,Ni,Cu,Mo/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
NCS148371 | 50mL
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标准物质/5种混合标准溶液-磷铬锰镍钼P,Cr,Mn,Ni,Mo/介质:10%硝酸+tr.盐酸
NCS148611 | 50mL
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标准物质/4种混合标准溶液-铬锰镍钼Cr,Mn,Ni,Mo/介质:10%硝酸+tr.盐酸
NCS148780 | 50ml
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标准物质/8种混合标准溶液-铝铬锰铁钴镍铜钼Al,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Mo/介质:10%硝酸+tr.氢氟酸+tr.盐酸
NCS181110 | 50mL
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标准物质/6种混合标准溶液-钒铬锰镍铜钼V,Cr,Mn,Ni,Cu,Mo/介质:10%硝酸+tr.盐酸
NCS148429 | 50mL
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标准物质/4种混合标准溶液-铬锰镍铜Cr,Mn,Ni,Cu/介质:10%硝酸+tr.盐酸
NCS181095 | 50ml
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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。
标准名称及标准号：
《酸浸取-电感耦合等离子体质谱法测定多晶硅表面金属杂质》GB/T 24582-2009
适用范围：
适用于多晶硅表面铝、镍、铬、铜、锰、钼等22种金属杂质的测定，涵盖您使用的Si,P,Cr,Mn,Ni,Cu,Mo元素。适用于半导体级多晶硅材料表面金属污染分析。
核心检测方法：
1. 酸浸取前处理：使用氢氟酸-硝酸混合酸体系浸取表面金属杂质
2. 检测设备：电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)
3. 定量方式：内标法定量（推荐使用Rh,In,Re作为内标元素）
检出限与定量限：
• 硅(Si)检出限：0.5μg/m²
• 磷(P)检出限：0.05μg/m²
• 铬(Cr)检出限：0.01μg/m²
• 锰(Mn)/镍(Ni)/铜(Cu)检出限：0.02μg/m²
• 钼(Mo)检出限：0.005μg/m²
定量限一般为检出限的3-5倍
质控样品要求：
1. 每批次需带空白样品（高纯硅片）
2. 每10个样品插入1个质控样
3. 使用有证标准物质(CRM)验证回收率
4. 内标元素回收率控制在85%-115%
5. 平行样相对偏差≤20%
关键实验步骤：
1. 样品前处理：将多晶硅样品放入聚四氟乙烯消解罐，加入适量HF+HNO₃混合酸
2. 浸取程序：在超净工作台中室温浸取10分钟，避免剧烈反应
3. 定容转移：用超纯水定容至50mL聚乙烯容量瓶
4. 仪器分析：ICP-MS采用碰撞反应池技术消除质谱干扰
5. 数据处理：根据内标校正曲线计算元素含量
特别说明：
1. 氢氟酸使用安全：必须在通风橱中操作，佩戴防酸手套和护目镜
2. 容器选择：使用PTFE或PFA材质容器，避免玻璃器皿
3. 硅的特殊处理：需优化ICP-MS的射频功率和采样深度消除硅基体效应
4. 钼的记忆效应：分析后需用5%氨水+2%EDTA溶液冲洗系统10分钟
5. 磷的干扰校正：采用动态反应池(DRC)技术消除³⁸Ar¹H⁺对³⁹K⁺的干扰
标准名称及标准号：
《铝及铝合金化学分析方法 第25部分：元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》GB/T 20975.25-2020
适用范围：
适用于铝及铝合金中硅(0.001%-18%)、铜(0.001%-12%)、锰(0.001%-2%)、镍(0.001%-3%)、铬(0.001%-0.5%)、钼(0.001%-0.3%)等元素的测定。
核心检测方法：
1. 样品溶解：盐酸-硝酸混合酸溶解，氢氟酸处理含硅样品
2. 检测设备：电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)
3. 光谱选择：推荐使用高灵敏度轴向观测模式
4. 谱线选择（示例）：
• Si 251.611nm
• P 178.284nm
• Cr 267.716nm
• Mn 257.610nm
以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！