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标准物质/8种混合标准溶液-钛锗锆铌锡锑钽钨Ti,Ge,Zr,Nb,Sn,Sb,Ta,W/介质:10%硝酸+5%氢氟酸介绍:

产品组成:
编号 产品浓度
NCS148884 100μg/mL

您正在浏览的产品:标准物质/8种混合标准溶液-钛锗锆铌锡锑钽钨Ti,Ge,Zr,Nb,Sn,Sb,Ta,W/介质:10%硝酸+5%氢氟酸

手机版:标准物质/8种混合标准溶液-钛锗锆铌锡锑钽钨Ti,Ge,Zr,Nb,Sn,Sb,Ta,W/介质:10%硝酸+5%氢氟酸

本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。

GB/T 33042-2016 金属锆及锆合金化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
标准名称及标准号 GB/T 33042-2016《金属锆及锆合金化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》
适用范围 适用于金属锆及锆合金中钛(Ti)、锆(Zr)、铌(Nb)、锡(Sn)、锑(Sb)、钽(Ta)、钨(W)等痕量杂质元素的测定(锗元素需另行验证)
核心检测方法 电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS),采用内标法校正基体效应
检出限与定量限 Ti:0.05μg/g,定量限0.15μg/g
Nb:0.02μg/g,定量限0.06μg/g
Ta:0.01μg/g,定量限0.03μg/g
W:0.03μg/g,定量限0.09μg/g
(其他元素详见标准原文)
质控样品要求 1. 每批次须带空白样品
2. 使用有证标准物质(CRM)进行准确度控制
3. 平行样相对偏差≤15%
4. 加标回收率控制在85%-115%
关键实验步骤 1. 样品消解:0.1g样品+5mL氢氟酸+1mL硝酸,微波消解
2. 定容介质:5%硝酸+2%氢氟酸溶液
3. 内标选择:铑(Rh)或铟(In)作为内标元素
4. 仪器参数:RF功率1400W,雾化气流速0.95L/min
5. 干扰校正:采用动能歧视模式消除多原子离子干扰
特别说明 1. 氢氟酸介质需使用耐腐蚀进样系统(如PFA雾化器)
2. 锆基体需稀释至≤500mg/L防止锥孔堵塞
3. 钼-锆氧化物干扰需采用数学校正方程消除
GB/T 24582-2009 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法测定多晶硅表面金属杂质
标准名称及标准号 GB/T 24582-2009《酸浸取-电感耦合等离子体质谱法测定多晶硅表面金属杂质》
适用范围 适用于钛(Ti)、锆(Zr)、铌(Nb)、锡(Sn)、锑(Sb)、钽(Ta)、钨(W)等金属杂质分析(锗元素需验证适用性)
核心检测方法 酸浸取前处理结合ICP-MS检测,介质匹配10%硝酸+5%氢氟酸
检出限与定量限 表面浓度检出限:0.08-0.15ng/cm²
Ti定量限:0.24ng/cm²,Ta定量限:0.03ng/cm²
W定量限:0.09ng/cm²,Sb定量限:0.06ng/cm²
质控样品要求 1. 空白样品必须使用同批次浸取液
2. 每10个样品插入1个质控样
3. 使用NIST SRM 1643e等标准物质验证
4. 平行样RSD≤20%
关键实验步骤 1. 样品处理:室温超声浸取30分钟(10%HNO₃+5%HF)
2. 容器要求:全程使用PTFE/PFA材质器具
3. 内标选择:钪(Sc)、钇(Y)、铟(In)混合内标
4. 仪器校准:每周进行质量轴校准和灵敏度校准
5. 记忆效应消除:3%氨水+5%乙醇冲洗系统
特别说明 1. 需验证HF浓度对难溶元素(Ta,W)的浸取效率
2. 锡(Sn)需监测²⁰⁸Pb对¹¹⁸Sn的干扰
3. 含氟溶液需当日完成检测防止沉淀

以上信息仅供参考,请以相应标准的原文为准!