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标准物质/5种混合标准溶液-锗锆铪铋铑Ge,Zr,Hf,Bi,Rh/介质:10%硝酸+2%氢氟酸
图片仅供参考,具体产品以实物为准!

标准物质/5种混合标准溶液-锗锆铪铋铑Ge,Zr,Hf,Bi,Rh/介质:10%硝酸+2%氢氟酸

NCS1481093
¥ 450.0
¥ 450.0
50ml
钢研纳克
100μg/mL
+
0
标准物质/5种混合标准溶液-锗锆铪铋铑Ge,Zr,Hf,Bi,Rh/介质:10%硝酸+2%氢氟酸介绍:

产品组成:
编号 产品浓度
NCS1481093 100μg/mL

您正在浏览的产品:标准物质/5种混合标准溶液-锗锆铪铋铑Ge,Zr,Hf,Bi,Rh/介质:10%硝酸+2%氢氟酸

手机版:标准物质/5种混合标准溶液-锗锆铪铋铑Ge,Zr,Hf,Bi,Rh/介质:10%硝酸+2%氢氟酸

本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。

标准名称及标准号
GB/T 39143-2020
电子级多晶硅中痕量金属含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
适用范围
适用于电子级多晶硅、太阳能级硅材料中痕量金属杂质检测,包含您使用的Ge、Zr、Hf、Bi、Rh等元素。特别适用于含硅基体样品(需氢氟酸消解体系),检测浓度范围0.01~100μg/kg。
核心检测方法
1. 方法原理:微波消解结合电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)
2. 介质要求:明确使用含氢氟酸的硝酸体系(10%HNO₃+2%HF)保持元素稳定性
3. 内标选择:需添加Rh内标校正基体效应
4. 干扰消除:采用动能歧视(KED)模式消除多原子离子干扰
检出限与定量限
元素 检出限(μg/L) 定量限(μg/L)
Ge 0.008 0.027
Zr 0.005 0.017
Hf 0.003 0.010
Bi 0.002 0.007
Rh 0.001 0.003
质控样品要求
1. 每批次需带空白样和基体匹配标准物质(SRM)
2. 使用您提及的混合标准溶液制作校准曲线(R²≥0.999)
3. 每10个样品插入质控样,允许偏差≤15%
4. 内标回收率控制在85%-115%
关键实验步骤
1. 样品前处理:0.5g样品+5mL HNO₃+2mL HF微波消解(180℃/30min)
2. 定容:超纯水定容至50mL,保持10%HNO₃+2%HF介质
3. 仪器条件:RF功率1550W,载气流速1.05L/min,KED模式
4. 质量数选择:Ge(74)、Zr(90)、Hf(178)、Bi(209)、Rh(103)
特别说明
1. 容器选择:必须使用PFA材质的消解罐和保存容器
2. 元素稳定性:Zr/Hf在HF介质中易形成氟化物颗粒,需在24h内完成检测
3. 干扰校正:Ge需校正⁴⁰Ar³⁴S⁺干扰,Hf需校正¹⁵³Gd²⁵Mg⁺干扰
4. 安全警示:氢氟酸处理需佩戴钙螯合剂应急药膏

以上信息仅供参考,请以相应标准的原文为准!