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水中硅

BW17526

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万佳

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常温避光

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水中硅介绍：

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标物编号	产品名称	CAS NO	标准值	规格	价格	库存	有效期至
BW17525-5	水中硅	——	0.1μg/mL	50mL	70	≥5	2025-12-19
BW17384b-5	水中硅	——	1000μg/mL	50mL	70	3	2027-06-17
BW17526-1	水中硅	——	10000μg/mL	50mL	400	1	2026-04-06
BW17525	水中硅	——	100μg/mL	50mL	60	1	——
BW17525-1	水中硅	——	10μg/mL	50mL	70	1	——
BW17526-3	水中硅	——	500μg/mL	50mL	70	1	2026-01-12
BW17526-1	水中硅	——	10000μg/mL	100mL	800	现货
BW17526	水中硅	——	1000μg/mL	100mL	130	现货	——
BW17526	水中硅	——	1000μg/mL	20mL	50	现货
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硅标准溶液相关国家标准及行业标准解读

1. GB/T 30302-2013《工业硅》

适用范围：适用于冶金级工业硅产品的化学成分分析，包含硅含量主成分及杂质元素测定。

• 规定工业硅中Si含量需≥98.7%（冶金级）

• 配套检测方法参照GB/T 14849系列标准

检出限：杂质元素Fe、Al、Ca的检出限≤0.01%（分光光度法）

2. GB/T 6730.76-2017《铁矿石钾、钠、钒、铜、锌、铅、铬、镍、钴含量的测定电感耦合等离子体发射光谱法》

适用范围：虽然主要针对铁矿，但其ICP-OES检测方法适用于硅标准溶液中杂质元素的定量分析。

• 提供多元素同步检测方法学支持

• 包含硅基体干扰校正方案

检出限：典型元素检出限达0.001-0.005μg/mL（以3σ计）

3. GB/T 14849.4-2014《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》

适用范围：专门针对工业硅及其标准溶液中Fe、Al、Ca等15种杂质元素的ICP-AES检测。

• 规定标准溶液配制梯度要求

• 包含基体匹配控制方法

检出限：各元素检出限范围0.0005%-0.003%

行业标准补充

YS/T 739-2020《铝电解质中硅含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》

适用范围：铝工业用硅标准溶液的质量控制，特别适用于高盐基体样品。

SJ/T 11555-2015《多晶硅用氯化氢中金属杂质的测定电感耦合等离子体质谱法》

适用范围：电子级硅标准溶液中超痕量金属杂质的检测，适用于半导体行业。

HJ 767-2015《水质钡、铍、硼、钴等19种元素的测定电感耦合等离子体发射光谱法》

关联应用：环境监测领域硅标准溶液的使用规范，包含保存期限（聚乙烯瓶6个月）等要求。

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