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钕(Nd)/原子吸收分光光度计单元素空心阴极灯/KY-2型/2针/适用仪器:日立_
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钕(Nd)/原子吸收分光光度计单元素空心阴极灯/KY-2型/2针/适用仪器:日立

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钕(Nd)/原子吸收分光光度计单元素空心阴极灯/KY-2型/2针/适用仪器:日立介绍:

钕(Nd)/原子吸收分光光度计单元素空心阴极灯/KY-2型/2针

产品概述

本产品为钕(Nd)元素专用单元素空心阴极灯,专为原子吸收分光光度计设计,适配日立系列仪器。采用高纯度阴极材料和优化结构,可提供稳定的锐线光谱,满足痕量钕元素检测的高灵敏度需求。

产品特点

  • 低起辉电压:<360V,快速启动性能优异
  • 卓越稳定性:预热20分钟后漂移量≤0.003A/30min
  • 超低噪声水平:≤0.002A(以Cu灯为基准)
  • 超长使用寿命:3000-5000mA/h工作寿命
  • 精准适配:KY-2型2针接口完美兼容日立仪器

产品规格参数

参数指标
起辉电压<360V
稳定性Cu灯预热20min后漂移≤0.003A/30min
噪声Cu灯≤0.002A
使用寿命3000mA/h ~ 5000mA/h
接口类型KY-2型/2针

工作原理

通过低压气体放电产生辉光放电,阴极钕元素原子受高能粒子轰击发生溅射并激发,发射出钕元素的特征锐线光谱,为原子吸收分析提供精确光源。

安装与使用方法

  1. 确认仪器断电状态下安装灯体
  2. 对准仪器灯座定位槽插入2针接口
  3. 开机后设置灯电流3-5mA范围
  4. 预热20分钟达到最佳工作状态
  5. 通过仪器自动寻峰功能校准波长

注意事项

  • 禁止在未安装灯体时通电操作
  • 避免频繁开关(间隔应>10分钟)
  • 长期存放需保持干燥避光环境
  • 工作电流不宜超过标称最大值
  • 定期用无水乙醇清洁光学窗口

应用领域

  • 稀土材料成分分析
  • 冶金工业过程监控
  • 环境监测钕元素检测
  • 电子材料纯度分析
  • 科研机构光谱研究

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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。

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国家标准《原子吸收光谱分析法通则》
标准名称及标准号 GB/T 15337-2008《原子吸收光谱分析法通则》
适用范围 适用于使用原子吸收分光光度计测定金属元素的含量,包括钕(Nd)的定量分析,涵盖冶金、环境、化工等领域的样品检测。
核心检测方法 采用空心阴极灯作为光源,通过测量样品中钕原子对特征光谱的吸收强度进行定量分析,需校准标准曲线。
检出限与定量限 钕的检出限通常为0.01-0.1 mg/L(依仪器性能及样品基体差异调整),定量限为检出限的3倍。
质控样品要求 需包含空白样品、平行样及加标回收样,加标浓度应为待测物浓度的0.5-2倍,回收率须在80%-120%范围内。
关键实验步骤 1. 仪器预热与波长校准;2. 标准曲线绘制(至少5个浓度点);3. 样品前处理(消解、过滤);4. 吸光度测定与数据计算。
特别说明 需注意电离干扰和光谱干扰,必要时加入消电离剂或使用背景校正功能;仪器狭缝宽度和灯电流需根据厂商推荐参数设置。
行业标准《水质 65种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》
标准名称及标准号 HJ 700-2014《水质 65种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》
适用范围 适用于水体中钕及其他稀土元素的痕量检测,包括地表水、地下水及工业废水。
核心检测方法 通过电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)进行多元素同步分析,检测同位素丰度以确定钕含量。
检出限与定量限 钕的方法检出限为0.005 μg/L,定量限为0.02 μg/L。
质控样品要求 每批次样品需包含10%的平行样、空白样及加标样,内标元素回收率应控制在70%-130%。
关键实验步骤 1. 样品酸化过滤;2. 内标溶液添加;3. 仪器调谐至氧化物产率<3%;4. 数据采集与干扰校正。
特别说明 高盐样品需稀释或采用碰撞反应池技术消除多原子离子干扰;需定期清洗进样系统以避免记忆效应。
国家标准GB/T 20975.3-2020《铝及铝合金化学分析方法 第3部分:稀土含量的测定》
标准名称及标准号 GB/T 20975.3-2020《铝及铝合金化学分析方法 第3部分:稀土含量的测定》
适用范围 适用于铝及铝合金材料中钕等稀土元素含量的测定,检测范围0.001%-0.50%。
核心检测方法 推荐使用原子吸收光谱法或电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES),需基体匹配标准溶液。
检出限与定量限 AAS法对钕的检出限为0.02 mg/kg,定量限为0.06 mg/kg。
质控样品要求 使用有证铝合金标准物质验证,平行样相对偏差应≤10%。
关键实验步骤 1. 样品盐酸-硝酸消解;2. 基体干扰掩蔽剂添加;3. 标准加入法或内标法定量。
特别说明 铝基体可能引起背景吸收干扰,需优化灰化温度或使用塞曼校正;高硅样品需氢氟酸处理。
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