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高纯氦气体标准物质_
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高纯氦气体标准物质

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高纯氦气体标准物质介绍:


特征形态:气态
主要分析方法:气相色谱法#
定值单位:北京氦普北分气体工业有限公司#
定级证书量值信息:
标准值相对不确定度(%)单位CAS备注
高纯氦99.9990*0.0002*物质的量分数(10-2)
*单位为:物质的体积分数(×10-2)

研制单位名称:北京氦普北分气体工业有限公司#

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GB/T 4844-2011《纯氦、高纯氦和超纯氦》
标准名称 GB/T 4844-2011《纯氦、高纯氦和超纯氦》
适用范围 适用于高纯氦气体中杂质组分(如氧、氮、氢、二氧化碳等)的检测,明确纯度等级划分及技术指标。
核心检测方法 气相色谱法(GC)结合热导检测器(TCD)或氦离子化检测器(PDHID),用于定量分析杂质含量。
检出限与定量限 氧、氮等杂质检出限≤0.1 ppm(体积分数),定量限≤0.5 ppm(体积分数)。
质控样品要求 需使用有证标准气体进行仪器校准,标准气体浓度需覆盖待测样品杂质含量范围。
关键实验步骤 1. 色谱柱选择(如分子筛柱分离氧、氮);
2. 载气净化处理;
3. 检测器灵敏度校准。
特别说明 需严格控制实验室环境,避免空气反扩散污染;高纯氦检测应使用高惰性材质气路系统。
《工业用高纯氦》
标准名称 HG/T 3934-2007《工业用高纯氦》
适用范围 针对工业用高纯氦的质量控制,涵盖半导体、光纤制造等场景的检测要求。
核心检测方法 质谱法(MS)用于痕量杂质分析,结合气相色谱法验证特定组分。
检出限与定量限 总杂质含量检测灵敏度≤1 ppm,单组分定量限≤0.2 ppm。
质控样品要求 需定期使用空白气体(如零级氦)验证系统本底,避免交叉污染。
关键实验步骤 1. 质谱仪质量数扫描范围设置;
2. 离子源清洗频率控制;
3. 数据归一化处理。
特别说明 需注意质谱仪真空度对检测结果的影响;痕量水分的测定需单独使用露点仪。

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