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硅铁成分分析标准物质

GBW01432

Ferro Silicon

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70g

萘析精选

见证书

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硅铁成分分析标准物质介绍：

使用注意事项：开封使用后，应拧紧内外盖，贮存于干燥器中，最小取样量为0.2g
特征形态：固态
基体：铁
主要分析方法：红外法、原子吸收光谱法、库仑法等多种分析方法#
定值单位：武汉钢铁（集团）公司技术中心# 武汉科技大学# 吉林铁合金股份有限责任公司# 国家钢铁材料测试中心# 鞍山钢铁集团公司# 成都无缝钢管有限责任公司# 地质矿产部湖北地质实验研究所# 上海第一钢铁（集团）有限公司#
规格：70g
定级证书量值信息：

	标准值	不确定度	单位	CAS	备注
Si	78.96	0.08	质量分数(10^-2)	7440-21-3
P	0.0093	0.0004	质量分数(10^-2)	7723-14-0
Mn	0.058	0.005	质量分数(10^-2)	7439-96-5
C	0.024	0.002	质量分数(10^-2)
S	0.0037	0.0004	质量分数(10^-2)	7704-34-9
S	0.0037	0.0004	质量分数(10^-2)	7704-34-9
Cr	0.0053	0.0004	质量分数(10^-2)	7440-47-3
Cu	0.049	0.002	质量分数(10^-2)	7440-50-8
	标准值	标准偏差(S)	单位	CAS	备注
Al	0.24	0.01	质量分数(10^-2)	7429-90-5
	标准值	不确定度	单位	CAS	备注
Ca	0.064	0.004	质量分数(10^-2)	7440-70-2
Mo	0.0013	0.0002	质量分数(10^-2)	7439-98-7
Ti	0.032	0.002	质量分数(10^-2)	7440-32-6
	标准值	标准偏差(S)	单位	CAS	备注
As	0.0012	0.0002	质量分数(10^-2)	7440-38-2
	标准值	不确定度	单位	CAS	备注
B	0.0029	0.0002	质量分数(10^-2)	7440-42-8
Ba	0.0060	0.0004	质量分数(10^-2)	7440-39-3
Co	0.0031	0.0003	质量分数(10^-2)	7440-48-4
Fe	20.24	0.05	质量分数(10^-2)	7439-89-6
Mg	0.0051	0.0002	质量分数(10^-2)	7439-95-4
Ni	0.035	0.002	质量分数(10^-2)	7440-02-0
O	(0.256)		质量分数(10^-2)
Sn	0.0003	0.0001	质量分数(10^-2)	7440-31-5
V	0.0024	0.0002	质量分数(10^-2)	7440-62-2

应用领域：钢铁/铁合金
保存条件：干燥处。
研制单位名称：武汉钢铁（集团）公司技术中心#

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GB/T 2272-2023 硅铁化学分析方法

标准名称及标准号	GB/T 2272-2023《硅铁化学分析方法》
适用范围	适用于硅铁合金中硅、锰、磷、铝等元素的定量分析，覆盖含量范围0.01%~95%
核心检测方法	重量法（硅）、分光光度法（磷）、ICP-AES法（多元素）
检出限与定量限	硅定量限0.5%；磷检出限0.001%；铝定量限0.01%
质控样品要求	需使用有证标准物质同步测试，重复测定次数≥3次，RSD≤2%
关键实验步骤	① 碱熔融分解样品；② 氟硅酸钾沉淀分离；③ ICP-AES多通道同步检测
特别说明	高硅样品需控制氟化氢用量，防止硅酸胶体形成干扰

GB/T 4336-2016 碳素钢和中低合金钢火花源原子发射光谱分析方法

标准名称及标准号	GB/T 4336-2016《碳素钢和中低合金钢火花源原子发射光谱分析方法》
适用范围	可扩展应用于硅铁合金中Si、Mn、Cr等主量元素的快速检测
核心检测方法	火花源原子发射光谱法（Spark-AES）
检出限与定量限	硅定量限0.1%，锰定量限0.05%
质控样品要求	需制备与待测样品基体匹配的校准标样，表面粗糙度Ra≤3.2μm
关键实验步骤	① 样品表面磨削处理；② 氩气气氛保护；③ 多元素同步激发检测
特别说明	需注意硅铁导电性差异对激发稳定性的影响

GB/T 7730.5-2022 金属材料电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准名称及标准号	GB/T 7730.5-2022《金属材料电感耦合等离子体原子发射光谱法》
适用范围	适用于硅铁中痕量元素（如As、Pb、Sn）的测定
核心检测方法	微波消解-ICP-AES法
检出限与定量限	As检出限0.0005%，Pb定量限0.001%
质控样品要求	每批次插入基体加标样品，回收率控制在85%~115%
关键实验步骤	① 硝酸/氢氟酸混合消解；② 等离子体功率优化；③ 干扰校正方程应用
特别说明	需使用耐氢氟酸雾化器及进样系统

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