氧化铪(IV)
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氧化铪(IV)
S41436-25g | 99.9%(metals basis 去除 Zr), Zr <0.5%
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氧化铪(IV)
S41436-5g | 99.9%(metals basis 去除 Zr), Zr <0.5%
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氧化铪(IV)
V33249-1g | ≥98%, powder,Zr ＜1.5%
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氧化铪(IV)
V33249-5g | ≥98%, powder,Zr ＜1.5%
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氧化钛(IV)
V13133-5g | 99.99% trace metals basis， <100 nm
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氧化锡(IV)
V33226-100g | ≥99.9% metals basis, ＞325 mesh
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氧化铪(IV)
R011838-500g | 99.99%(高纯试剂)
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2-氨基-4-甲基硫代苯-3-氨甲酰
Y99972-1g | ≥95%
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3-羟基邻苯二甲酸二甲酯
Y99949-1g | 95%
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2-硝基-4-羟基-3-甲氧基苯乙酮
Y99867-1g | 98%
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(R)-GAMMA-氨基-4-甲氧基苯丙醇
Y99799-1g | ≥97%
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2-Carbamoyl-piperazine-1-carboxylic acid tert-butyl ester
Y99711-1g | ≥97%
分子式：HfO2
分子量：210.49
储存条件：RT
外观：白色至棕褐粉末
用途：为生产金属铪和铪合金的原料。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化剂。
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