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钨助剂T1 W≥99.95%

NCS150001(T1)

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2kg/瓶

钢研纳克

见证书

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钨助剂T1 W≥99.95%介绍：

产品组成：

编号	C	S
NCS150001(T1)	＜0.0008	＜0.0005

产品特点简介：

粒度：0.4-0.8mm 摇实密度：9.3-9.5cm3

以上信息仅供参考，请以实物批次为准！

本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。

国家标准解读：钨助剂T1检测相关标准

标准名称及标准号

GB/T 26008-2010《高纯钨化学分析方法》

适用范围	适用于高纯钨（W≥99.95%）中杂质元素的测定，包括Fe、Ni、Cr等16种金属杂质。特别适用于钨助剂类产品的纯度验证及质量管控。

核心检测方法

1. 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）为主方法

2. 试样经硝酸-氢氟酸溶解后直接测定

3. 基体匹配法消除钨基体干扰

4. 标准加入法验证结果准确性

检出限与定量限

• 杂质元素检出限：0.0001%～0.0005%

• 定量下限：0.0003%～0.001%

• 满足W≥99.95%纯度验证要求

• 钙、钠等轻元素灵敏度：≤0.0002%

质控样品要求

1. 使用有证钨基标准物质（CRM）

2. 每批次插入3个浓度水平控制样

3. 平行样品数≥2个/批次

4. 加标回收率范围：85%-115%

5. 标准曲线相关系数R²≥0.999

关键实验步骤

1. 样品消解：称取0.20g试样于聚四氟乙烯罐中，加入5mL硝酸+2mL氢氟酸，150℃密闭消解4小时

2. 基体匹配：配制与样品相同钨基体浓度的标准系列

3. 仪器参数：RF功率1300W，雾化气流量0.8L/min，观测高度12mm

4. 谱线选择：Fe 238.204nm、Ni 231.604nm、Cr 267.716nm等

5. 背景校正：采用动态背景扣除技术

特别说明	1. 必须使用耐氢氟酸进样系统，防止腐蚀损坏仪器 2. 钨基体浓度需控制在10mg/mL以下防止堵塞 3. 需监控钨的谱线干扰（如W207.911nm对Pb的干扰） 4. 实验室环境要求：洁净度10000级，温湿度控制±2℃/±5% 5. 结果计算采用差减法：W% = 100% - Σ(杂质元素)%

以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！