标准物质/6种混合标准溶液-镁铌钼钨铅铋Mg,Nb,Mo,W,Pb,Bi/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
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标准物质/6种混合标准溶液-钛锗钼钨铅铋Ti,Ge,Mo,W,Pb,Bi/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
NCS141376 | 50mL
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标准物质/3种混合标准溶液-钒钼钨V,Mo,W/介质:10%硝酸+2%氢氟酸+tr.盐酸
NCS148421 | 50mL
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标准物质/4种混合标准溶液-钛铌钨铂Ti,Nb,W,Pt/介质:10%盐酸+tr.氢氟酸
NCS185067 | 100ml
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标准物质/3种混合标准溶液-铍铟铋Be,In,Bi/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
NCS148242 | 50mL
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标准物质/12种混合标准溶液-锆铌钼镉铟锡铪钽钨铊铅铋Zr,Nb,Mo,Cd,In,Sn,Hf,Ta,W,Tl,Pb,Bi/介质:2%硝酸+tr.氢氟酸
NCS148943 | 50ml
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标准物质/12种混合标准溶液-锆铌钼镉铟锡铪钽钨铊铅铋Zr,Nb,Mo,Cd,In,Sn,Hf,Ta,W,Tl,Pb,Bi/介质:2%硝酸+tr.氢氟酸
NCS148961 | 50mL
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标准物质/8种混合标准溶液-钛钒锆铌钼铪钽钨Ti,V,Zr,Nb,Mo,Hf,Ta,W/介质:10%硝酸+5%氢氟酸+tr.盐酸
NCS148637 | 50mL
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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。
适用范围：适用于硅酸盐岩石、矿物及土壤中Mg、Nb、Mo、W、Pb、Bi等40余种痕量元素的测定，样品需经氢氟酸消解处理。
核心检测方法：样品经HF-HNO₃体系消解后，使用ICP-MS测定目标元素，采用内标法（Rh/Re）校正基体效应。
检出限与定量限：
Mg: 0.5μg/g (检出限), 1.7μg/g (定量限)
Nb: 0.02μg/g, 0.07μg/g
Mo: 0.03μg/g, 0.10μg/g
W: 0.01μg/g, 0.03μg/g
Pb: 0.05μg/g, 0.17μg/g
Bi: 0.01μg/g, 0.03μg/g
质控样品要求：
• 每批次须带国家一级标准物质（如GBW07105）
• 平行样数量≥10%
• 加标回收率控制在85%-115%
关键实验步骤：
1. 称取0.1g样品于聚四氟乙烯消解罐
2. 加入1mL HNO₃+3mL HF（含微量HCl）
3. 180℃微波消解40min
4. 定容至50mL（含1%硝酸介质）
5. ICP-MS测定前用10μg/L Rh/Re内标在线混合
特别说明：钨、铌等元素需采用氨水沉淀分离消除钽干扰；介质中HF浓度需＜0.5%以防止仪器腐蚀。
适用范围：适用于水处理化学品中Mg、Pb、Bi等金属杂质检测，介质兼容硝酸-盐酸体系。
核心检测方法：直接稀释法或酸消解后ICP-MS测定，采用动能歧视模式消除多原子离子干扰。
检出限与定量限：
Mg: 0.05μg/L, 0.15μg/L
Pb: 0.02μg/L, 0.07μg/L
Bi: 0.005μg/L, 0.015μg/L
质控样品要求：
• 每20样品插入1个空白
• 使用CRM-TMDW-1标准水样验证
• 相对标准偏差≤8%
关键实验步骤：
1. 取10mL样品加入0.5mL HNO₃酸化
2. 加入1ppb In内标溶液
3. 直接进样测定（低TDS样品）
4. 高盐样品需1:50稀释防止锥口堵塞
特别说明：铅元素需监控²⁰⁷Pb/²⁰⁸Pb比值验证干扰；含有机质样品需紫外消解处理。
适用范围：地表水、地下水及废水中多元素同时测定，兼容10%硝酸+微量盐酸介质体系。
核心检测方法：酸固定样品经0.45μm滤膜过滤后直接进样，碰撞反应池技术消除干扰。
检出限：
Mg: 10μg/L | Nb: 0.05μg/L | Mo: 0.1μg/L
W: 0.02μg/L | Pb: 0.05μg/L | Bi: 0.01μg/L
质控样品要求：
• 每批样品带质控样（GSB07-3173-2014）
• 连续校准验证每4小时1次
• 空白值需＜方法检出限
关键实验步骤：
1. 样品现场加硝酸固定至pH＜2
2. 分析前添加1μg/L ³⁷Cl内标
3. 采用He碰撞模式测定Nb、Mo
4. Pb、Bi使用标准加入法定量
特别说明：高盐样品需稀释至TDS＜0.1%；含HF样品必须用硼酸络合处理。
适用范围：半导体材料中痕量金属杂质检测，特别适用于含HF酸消解体系样品。
核心检测方法：蒸汽相分解(VPD)前处理结合ICP-MS测定，采用耐氢氟酸进样系统。
定量限：
Mg: 5×10¹⁰ atoms/cm²
Nb/Mo/W: 1×10⁹ atoms/cm²
Pb/Bi: 5×10⁸ atoms/cm²
质控样品要求：
• 使用NIST SRM 2135晶圆标准
• 每批次清洗空白对照
• 表面回收率测试≥80%
关键实验步骤：
1. 硅片表面HF蒸汽刻蚀
2. 酸雾收集于0.5mL超纯水中
3. 加入¹⁵In内标溶液
4. 耐HF雾化器直接进样
特别说明：实验需在Class 10超净环境下操作；所有酸试剂须为电子级纯度。
以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！