Bi, In, Re, Rh, Y
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Bi, In, Re, Rh, Y
GNM-M052020-2013 | 100ml
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Bi, Re, Rh, Y
GNM-M042278-2013 | 100ml
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Bi, In, Re, Rh, Sc, Y
GNM-M065589-2013 | 100ml
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Bi, In, Li, Re, Rh, Y
GNM-M067883-2013 | 100ml
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Bi,In,Re,Rh,Sc,Y
GNM-M068147-2013 | 100ml
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Bi, Ge, In, Re, Rh, Sc, Y
GNM-M073062-2013 | 100ml
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Bi, In, Li, Re, Rh, Sc, Y
GNM-M074350-2013 | 100ml
介质及浓度 : 10%HNO3,痕量 HCl, 有效期(月) : 12;
您正在浏览的产品:5种金属元素混标溶液/铋(Bi)铟(In)铼(Re)铑(Rh)钇(Y)/介质:10%HNO3,痕量 HCl
手机版:5种金属元素混标溶液/铋(Bi)铟(In)铼(Re)铑(Rh)钇(Y)/介质:10%HNO3,痕量 HCl
本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。
定量限(LOQ):通常为LOD的3-5倍,需通过空白样品加标实验确定
2. 每10个样品插入1个平行样(相对偏差≤15%)
3. 每批样品需带基体加标样(回收率85-115%)
4. 使用有证标准物质(CRM)验证准确性
2. 仪器调谐:使用调谐液优化灵敏度、氧化物产率(CeO⁺/Ce⁺<3%)、双电荷产率(Ba²⁺/Ba⁺<3%)
3. 内标加入:在线加入Sc(45)、Ge(72)、Rh(103)、In(115)、Re(187)、Bi(209)混合内标溶液
4. 干扰校正:监测镧(139La16O⁺对155Gd⁺干扰)等氧化物干扰,必要时采用碰撞反应池技术
2. Bi(209)存在204Hg干扰,需确保汞含量低于干扰阈值
3. 使用钇(Y)作为内标时需注意样品基体中Y本底浓度
4. 痕量HCl有助于Re、Rh的稳定,但Cl⁻浓度过高会导致ArCl⁺干扰(如对As75)
定量限按实际样品基体确定,一般要求LOQ≥3倍LOD
2. 每20个样品带1个平行双样(RSD≤10%)
3. 加标回收率控制:Bi 90-110%, In 85-115%, Re 80-120%, Rh 85-110%, Y 90-110%
4. 每季度进行实验室间比对
2. 内标选择:Rh(103)和Re(187)既作目标元素又作内标元素,需双浓度配制
3. 校准曲线:至少5个浓度点(含空白),线性相关系数r≥0.999
4. 记忆效应消除:样品间用5%HNO₃+0.5%HCl冲洗90s
2. 高TDS样品需采用标准加入法或稀释法消除基体效应
3. 使用钇(Y)作内标时,需验证89Y不受88Sr¹H⁺干扰
4. 标准溶液配制需与样品基体匹配(酸度误差≤±0.5%)
定量限按实际样品基体确定,一般为LOD的3倍
2. 每10个样品带1个平行样(RSD≤15%)
3. 每批样品加标回收率应在80-120%范围内
4. 使用仪器性能检查标准溶液(含Y)验证稳定性
2. 谱线选择:优先选择灵敏度高且干扰小的分析线,Y推荐371.029nm
3. 背景校正:采用两点或多点背景校正法
4. 干扰校正:使用干扰校正方程消除光谱干扰
2. 高盐样品需采用耐高盐雾化器或稀释处理
3. Bi在223.061nm处易受Fe干扰,需验证干扰程度
4. 标准溶液酸度需与样品保持一致(±0.2%偏差)
以上信息仅供参考,请以相应标准的原文为准!