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硅/

NCSZ-Si-2020(6)

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20mL

钢研纳克

10μg/mL

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GB/T 14849.4-2017《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》

适用范围：

适用于工业硅中铜、铁、钙、铝等16种杂质元素的测定，涵盖冶金级和化学级工业硅产品。

关联内容：

• 采用电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）

• 要求样品溶解采用氢氟酸-硝酸体系

• 标准中规定了干扰校正方法

检出限：

0.5-10 μg/g（不同元素），铁元素检出限为0.5 μg/g，钙元素为1.0 μg/g

HJ 501-2009《水质总硅的测定分光光度法》

适用范围：

适用于地表水、地下水、工业废水和生活污水中总硅的测定，包括可溶性硅酸盐和胶体硅。

关联内容：

• 提供钼蓝法和钼黄法两种检测方法

• 钼蓝法适用于0.04-2.50 mg/L浓度范围

• 钼黄法适用于1.0-50 mg/L浓度范围

检出限：

钼蓝法最低检出限0.02 mg/L，钼黄法最低检出限0.5 mg/L

GB/T 12149-2017《工业循环冷却水和锅炉用水中硅的测定》

适用范围：

专门针对工业水处理系统中硅含量的监测，包括火力发电厂、化工厂等工业用水。

关联内容：

• 规定分光光度法测定可溶性二氧化硅

• 包含硅钼蓝法和硅钼黄法两种方法

• 要求控制pH值在1.1-1.3范围内

检出限：

硅钼蓝法最低检出浓度0.01 mg/L（以SiO₂计）

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GB/T 14849.4-2017《工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》

HJ 501-2009《水质 总硅的测定 分光光度法》

GB/T 12149-2017《工业循环冷却水和锅炉用水中硅的测定》

GB/T 14849.4-2017《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》

HJ 501-2009《水质总硅的测定分光光度法》