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高纯氦气体标准物质_
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高纯氦气体标准物质

GBW(E)062476 {{goodObj.price > 0 ? '¥' + goodObj.price : '咨询'}} ¥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询 / {{goodObj.date}} 萘析精选 {{item.norm}} 99.9997【量分数(×10-2)】/不确定度:0.0004 {{inventory}}
高纯氦气体标准物质介绍:


特征形态:气态
定值单位:重庆凯益特种气体有限公司
定级证书量值信息:
标准值不确定度(×10-2)单位CAS备注
高纯氦99.99970.0004量分数(×10-2
*单位为:物质的体积分数(×10-2)

研制单位名称:重庆凯益特种气体有限公司

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手机版:高纯氦气体标准物质

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国家标准:GB/T 4844.3-2023《高纯氦》
标准名称GB/T 4844.3-2023《高纯氦》
该标准规定了高纯氦的技术要求、试验方法及包装标志,适用于电子、半导体等工业领域的高纯氦质量检测。
适用范围适用于纯度≥99.999%的氦气产品检测,涵盖气体中微量杂质(如O₂、N₂、H₂O、CO₂等)的分析。
核心检测方法采用气相色谱法(GC)与质谱法(MS)联用技术,结合高灵敏度检测器(如TCD、FID)完成杂质定量分析。
检出限与定量限O₂/N₂的检出限≤0.1 ppm,定量限≤0.5 ppm;H₂O的检出限≤0.05 ppm,定量限≤0.2 ppm。
质控样品要求需使用有证标准气体进行校准,校准气体浓度应覆盖待测杂质范围的50%-150%区间。
关键实验步骤1. 系统检漏与净化;2. 色谱柱活化;3. 标准曲线绘制;4. 样品进样与分析;5. 数据重复性验证(至少3次平行测定)。
特别说明实验过程中需避免样品污染,氦气储存容器必须经过严格钝化处理,分析环境湿度需控制在<30% RH。
行业标准:HG/T 5203-2017《电子工业用气体 氦》
标准名称HG/T 5203-2017《电子工业用气体 氦》
该标准针对电子工业用高纯氦的特殊要求,规定了杂质检测的补充方法与质量控制指标。
适用范围适用于半导体制造、光纤生产等对氦气纯度要求极高的领域,杂质总量控制≤5 ppm。
核心检测方法除GC/MS外,补充激光光谱法(如光声光谱)检测痕量H₂O和烃类化合物。
检出限与定量限烃类化合物(如CH₄)检出限≤0.01 ppm,定量限≤0.05 ppm;激光光谱法的H₂O检测灵敏度可达0.005 ppm。
质控样品要求每批次样品需同步分析空白对照与加标回收样品,回收率应控制在80%-120%范围内。
关键实验步骤1. 检测系统抽真空至≤10⁻³ Pa;2. 激光器波长校准;3. 动态稀释法配制标准气体;4. 背景信号扣除。
特别说明需定期验证检测系统的线性范围,当氦气压力>0.5 MPa时,需修正气体吸附效应对检测结果的影响。

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