滤膜中硅质控样品/HJ 799-2016_单标_基质类_标准物质_萘析商城

图片仅供参考，具体产品以实物为准！

滤膜中硅质控样品/HJ 799-2016

BWZ7994-2016

Si quality control in membrance

~~{{goodObj.price > 0 ? '￥' + goodObj.price : '咨询'}}~~

￥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询

3盒/套（1张/盒）

伟业计量

3组分

见证书

猜您喜欢

滤膜中硅质控样品/HJ 799-2016介绍：

一、基本信息：

基质	滤膜
形态	固态
有效期	2026-04-30
存储条件	常温密闭或冷藏条件下保存。本标准样品打开后应尽快使用，使用中严格防止沾污。可参照《GBZ/T 160.18-2004》进行前处理使用。
用途	本质量控制样品可作为工作标准，用于日常分析和检测；也可用于检测方法评价和仪器校准等实验室质量控制。
别名
理化性质
稀释方法

二、样品制备：

本质量控制样品以滤膜为基质，在室温（20±3）℃洁净实验室中采用加标法制备而成。

三、溯源性及定值方法：

本质量控制样品的标准值采用测量值，并用电感耦合等离子体原子发射光谱法进行量值核验。通过使用满足计量学特性要求的制备、测量方法和计量器具，保证标准物质量值的溯源性。

四、特征量值及扩展不确定度：

序号	组分	标准值	扩展不确定度(k=2)	基体
1	硅（BWZ7994-2016-1）	200.0μg/pc	45.0μg/pc	滤膜
2	硅（BWZ7994-2016-2）	100.0μg/pc	30.0μg/pc	滤膜
3	硅（BWZ7994-2016-3）	blank	/	滤膜

五、均匀性检验及稳定性考察：

参照JJF1343 国家计量技术规范（等效ISO指南35），对分装后的样品进行随机抽样，采用电感耦合等离子体原子发射光谱法对该标准物质进行均匀性检验和长期稳定性跟踪考察。结果表明：均匀性符合F检验规则，稳定性考察良好。

六、包装、储存及使用：

本标准物质采用塑料盒包装,规格3盒/套（1张/盒）携带或运输时应有防碎裂保护。

七、研制依据：

依据名称	依据编号	依据实施日期	下载
HJ 799-2016 环境空气颗粒物中水溶性阴离子（F-、Cl-、Br-、NO2-、NO3-、PO43-、SO32-、SO42-）的测定离子色谱法	HJ 799-2016	2016-08-01 00:00:00

八、参考资料：

以上信息仅供参考，请以实物批次为准！

本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。

标准名称及标准号

《环境空气颗粒物中硅的测定滤膜采样-分光光度法》（HJ 799-2016）

适用范围

本标准适用于环境空气和无组织排放颗粒物中硅的测定。滤膜采集样品后，通过化学消解和分光光度法检测硅含量，适用于实验室常规分析及质控样品验证。

核心检测方法

采用碱性消解结合钼蓝分光光度法。滤膜样品经氢氧化钠熔融消解后，硅转化为硅酸盐，与钼酸铵生成硅钼黄络合物，经还原剂还原为硅钼蓝，在812 nm波长处测定吸光度，定量计算硅含量。

检出限与定量限

方法检出限为0.02 μg/m³（以采样体积100 L计），定量限为0.08 μg/m³。需根据实际采样体积和样品基质调整计算结果。

质控样品要求

质控样品需与待测样品基质一致，且硅含量覆盖目标检测范围。每批次样品至少插入2个空白样和1个质控样，质控样测定结果应在标准值不确定度范围内，相对偏差≤15%。

关键实验步骤

1. 滤膜预处理：空白滤膜需经高温灼烧去除杂质。
2. 样品消解：采用氢氧化钠熔融法，控制温度和时间以避免硅损失。
3. 显色反应：严格控制钼酸铵加入量和反应时间，避免干扰物影响。
4. 分光光度测定：校准曲线需覆盖样品浓度范围，每批次重新绘制。

特别说明

1. 磷酸盐、铁离子等可能干扰测定，需通过调节酸度或加入掩蔽剂消除。
2. 滤膜材质需与标准方法一致（如石英或特氟龙滤膜），避免引入硅污染。
3. 实验室环境需控制硅本底，试剂纯度需达到优级纯。

以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！