VHG油标中的硫和金属分析/SMOIL8-100_混标_基质类_标准物质_萘析商城

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VHG油标中的硫和金属分析/SMOIL8-100

SMOIL8-100

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100mL

VHG

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G-1
G-053001 | 见证书

VHG油标中的硫和金属分析/SMOIL8-100介绍：

油标中的硫和金属符合ASTM D5708适用于原油和残油中的硫和金属分析基体: 20cSt. 矿物油体积: 100mL
元素浓度硫 wt%	铁µg/g	镍µg/g	矾µg/g	产品编号
0	0	0	0	SMOIL1-100
2.5	400	100	250	SMOIL2-100
0.5	300	10	500	SMOIL3-100
1	0	80	350	SMOIL4-100
4.5	250	60	100	SMOIL5-100
4	350	30	200	SMOIL6-100
3.5	200	50	0	SMOIL7-100
5.5	50	40	400	SMOIL8-100
2	450	20	300	SMOIL9-100
1.5	500	5	150	SMOIL10-100
3	150	70	25	SMOIL11-100
5	100	0	50	SMOIL12-100

美国VHG公司是世界最大的生产金属油基和水基标准样品的公司之一，为分析化学领域提供高质量的产品和服务。brVHG Labs的所有产品均符合ASTM、NIST 等国际标准,通过ISO9001:2000和ISO/IEC17025:2005认证,所有产品配有全面分析证明书（Certificate Of Analysis，COA）。brVHG Labs 的金属有机标样通过 ICP、AA、RDE、DC、XRF 等仪器来分析测定油和有机溶剂中的金属。br另外，还提供符合 ASTM 标准的含硫、氯和金属标样用于石油类产品的检测。br

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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。

标准名称及标准号

GB/T 17040-2019 石油和石油产品中硫含量的测定能量色散X射线荧光光谱法

适用范围

适用于原油、汽油、柴油、润滑油等石油产品中硫含量的测定，检测范围0.0080%~5.00%(m/m)。VHG油标SMOIL8-100适用于本标准的校准和质量控制

核心检测方法

能量色散X射线荧光光谱法(EDXRF)。样品直接置于X射线源和检测器之间，测量硫元素特征X射线荧光强度(Kα线，波长0.5373nm)，通过校准曲线定量

检出限与定量限

1. 方法检出限(MDL)：0.0020%(m/m)
2. 定量限(LOQ)：0.0080%(m/m)
3. 重复性：≤0.0287√X (X为硫含量平均值)
4. 再现性：≤0.1215√X

质控样品要求

1. 应使用VHG SMOIL8-100等有证标准物质建立校准曲线
2. 每批样品需包含空白样、重复样和质控样
3. 质控样浓度需覆盖样品浓度范围(建议低、中、高三个浓度点)
4. 质控样回收率应在85%-115%之间

关键实验步骤

1. 样品前处理：均质化后直接进样，避免气泡产生
2. 仪器校准：使用SMOIL8-100系列标准建立硫含量-荧光强度校准曲线
3. 光谱采集：X射线管电压40-50kV，电流自动调节，采集时间≥200s
4. 基体校正：采用康普顿散射校正法消除基质效应
5. 结果计算：通过校准曲线将净强度转换为硫含量

特别说明

1. 样品中重金属含量＞500mg/kg时需进行干扰校正
2. 卤素含量＞0.35%时需采用特殊校正模式
3. 硫形态差异可能导致测量偏差，需使用基质匹配标准物质
4. 含氧量＞2.5%的样品需额外验证准确性

标准名称及标准号

GB/T 17476-2012 使用过的润滑油中添加剂元素、磨损金属和污染物以及基础油中某些元素测定法

适用范围

适用于润滑油、原油、燃料油中多种金属元素（铝、铁、铜、铅、镍、锌等）的测定。VHG油标SMOIL8-100适用于本标准的元素校准

核心检测方法

电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)。样品经有机溶剂稀释后直接进样，通过等离子体激发产生特征发射光谱，多元素同时测定

检出限与定量限

1. 典型检出限：0.1-5mg/kg（随元素不同变化）
2. 精密度：重复性≤10%，再现性≤15%
3. 线性范围：跨越3个数量级（如铜元素0.5-500mg/kg）

质控样品要求

1. 使用SMOIL8-100等基质匹配标准物质进行校准
2. 每10个样品插入1个质控样和1个空白样
3. 质控样需包含目标金属元素且浓度接近样品水平
4. 连续分析时每4小时需重新校准

关键实验步骤

1. 样品制备：用二甲苯稀释样品（通常1:10比例）
2. 仪器条件：射频功率≥1.2kW，雾化气流量0.5-1.0L/min
3. 波长选择：优化选择无干扰特征谱线（如铅283.306nm）
4. 背景校正：采用动态背景校正技术
5. 内标法：添加钇或钪作为内标元素校正基体效应

特别说明

1. 高粘度样品需延长溶剂混合时间（≥30分钟）
2. 硅、硼等易挥发元素需采用耐氢氟酸进样系统
3. 钙、钠等易污染元素需专用样品制备区
4. 含颗粒物样品需离心处理后进样

以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！