标准物质/Si硅标准溶液/介质:10%盐酸和0.5%氢氟酸介质
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标准物质/Si硅标准溶液/介质: 10%盐酸和0.5%氢氟酸介质
NCS1875947 | 100mL
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标准物质/Si标准溶液/介质:硝酸+氢氟酸介质
NCS1875345 | 50mL
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标准物质/Si硅标准溶液/介质:10%HNO3
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标准物质/2种混合标准溶液-铝硅Al,Si/介质:10%硝酸+tr.盐酸+tr.氢氟酸
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标准物质/Si标准溶液/介质:0.3%TMAH 有机介质,不含硝酸、不含氢氟酸
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水中硅Si/介质:10% 氢氟酸
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标准物质/SiO2二氧化硅标准溶液/介质:盐酸+氢氟酸
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2. 使用电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)
3. 选择硅特征谱线251.611nm进行定量分析
定量下限:0.001% (10μg/g)
2. 质控样浓度需覆盖待测样品浓度范围
3. 每10个样品插入1个空白和1个质控样
2. 加入5mL盐酸(1+1)和1mL氢氟酸(40%)
3. 80℃水浴加热至完全溶解
4. 冷却后定容至50mL塑料容量瓶
5. ICP-OES测定前需静置30分钟
2. 氢氟酸浓度需严格控制在0.5%~1%范围
3. 标准溶液介质需与样品基体匹配
2. 电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)
3. 采用轴向观测模式提高灵敏度
定量限:0.002%
2. 每批次测试带试剂空白
3. 平行样相对偏差≤10%
2. 溶解温度控制在70±5℃
3. 定容后需在4小时内完成测试
4. 使用钇(Y)作为内标元素
2. 溶液浑浊需重新处理样品
3. 高含量样品需二次稀释
2. 硅钼蓝分光光度法
3. 在波长810nm处测量吸光度
定量下限:0.010%
2. 每样品做双平行测定
3. 加标回收率85%~110%
2. 沸水浴显色10分钟
3. 草酸掩蔽干扰离子
4. 使用1cm石英比色皿测定
2. 废液需专门收集处理
3. 显色后60分钟内完成测定
以上信息仅供参考,请以相应标准的原文为准!