二氧化硅_纯品_有机类_标准物质_萘析商城

图片仅供参考，具体产品以实物为准！

二氧化硅

H17189-10g

Silicon dioxide

~~{{goodObj.price > 0 ? '￥' + goodObj.price : '咨询'}}~~

￥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询

60676-86-0

10g

万佳

常温避光

猜您喜欢

二氧化硅介绍：

【产品编号】H17189-10g

【CAS.编号】60676-86-0

【中文名称】二氧化硅

【英文名称】Silicon dioxide

【标准值】SP

【产品规格】10g

【主要用途】本品仅用于实验室科研使用。

【保存条件】室温避光

【注意事项】

二氧化硅相关产品：

标物编号	产品名称	CAS NO	标准值	规格	价格	库存	有效期至
H17503	二氧化硅	60676-86-0	99.99% metals basis,粒径:5um	100g	132	现货
H17503-25g	二氧化硅	60676-86-0	99.99% metals basis,粒径:5um	25g	52	现货	——
H17189-10g	二氧化硅	60676-86-0	SP	10g	60	现货	——
H17189-50g	二氧化硅	60676-86-0	SP ≥99.9%	50g	120	现货	——
BW00773a-9	水中二氧化硅	——	10μg/L	100mL	160	≥5	2025-10-15
BW00773-2	水中二氧化硅	——	500μg/mL	50mL	60	≥5	——
BW00773b-9	水中二氧化硅	——	80μg/L	100mL	160	≥5	2025-10-15
BW00773-1	水中二氧化硅	——	100μg/mL	20mL	30	3	2026-03-06
BW00773-1	水中二氧化硅	——	100μg/mL	50mL	60	3	2026-06-23
BW00773-1	水中二氧化硅	——	100μg/mL	1L	900	2	2026-06-24

您正在浏览的产品：二氧化硅手机版：二氧化硅

以上信息仅供参考，请以实物批次为准！

本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。

国家标准GB/T 20020-2013《气相二氧化硅》解读

标准名称及标准号	GB/T 20020-2013《气相二氧化硅》
适用范围	适用于气相法生产的二氧化硅，包括工业用高纯度二氧化硅的检测，涵盖比表面积、灼烧减量、pH值等指标。
核心检测方法	氮吸附法（BET法）测定比表面积；重量法测定灼烧减量；电位滴定法测定pH值；电感耦合等离子体发射光谱（ICP-OES）测定金属杂质含量。
检出限与定量限	金属杂质检测限为0.1 mg/kg（ICP-OES）；比表面积测定重复性误差≤3%。
质控样品要求	需使用标准物质进行仪器校准，平行样检测偏差≤5%，每批次样品需包含空白对照和加标回收实验。
关键实验步骤	样品预处理需在105℃干燥2小时；BET测试需在液氮温度下进行；ICP-OES分析前需微波消解处理。
特别说明	实验环境需控制湿度＜40%，避免样品吸潮影响灼烧减量结果；金属杂质检测需使用高纯硝酸消解。

行业标准HG/T 3061-2009《橡胶配合剂沉淀水合二氧化硅》解读

标准名称及标准号	HG/T 3061-2009《橡胶配合剂沉淀水合二氧化硅》
适用范围	专用于橡胶工业中沉淀法生产的水合二氧化硅，检测指标包括二氧化硅含量、加热减量、DBP吸收值等。
核心检测方法	灼烧法测定二氧化硅含量；烘箱法测定加热减量；滴定法测定pH值；DBP吸收值测定采用扭矩流变法。
质控样品要求	需进行粒度分布验证，样品需过200目筛；DBP吸收值测定需控制环境温度25±1℃。
关键实验步骤	二氧化硅含量测定需马弗炉900℃灼烧至恒重；DBP吸收值测试需使用扭矩流变仪，终点判定以扭矩值突变为准。
特别说明	沉淀法样品需特别注意未反应硅酸盐残留，检测前需用去离子水洗涤至电导率＜50 μS/cm。

以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！