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高纯铜_7440-50-8
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高纯铜

H17836 {{goodObj.price > 0 ? '¥' + goodObj.price : '咨询'}} ¥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询 7440-50-8 10g {{goodObj.date}} 万佳 {{item.norm}} 3*3mm,99.999% {{inventory}} 常温避光
  • 铜粒

    H17293-25g | 99.9% metals basis,粒径<5mm

  • 铜粉

    H17293A-10g | 99.95%

  • 纯铬

    H17835a | 99.9%

  • 油纯

    CCFD200550 | >60%

  • 油纯

    CCFD200550 | 80.8%

  • ZAS-WM-75CST-15-5X | 5000 μg/g in 75 cSt Base oil

  • GSB04-2403-8-2010 | 见证书

高纯铜介绍:

【产品编号】H17836

【CAS.编号】7440-50-8

【中文名称】高纯铜

【英文名称】

【标准值】3*3mm,99.999%

【产品规格】10g

【主要用途】

【保存条件】室温避光

【注意事项】

高纯铜相关产品:
标物编号产品名称CAS NO标准值规格价格库存有效期至
H17836
高纯铜
7440-50-8
3*3mm,99.999%
10g
260现货
GBW02142
高纯铜纯度标准物质
——
——
2g/瓶
9000现货——
ZBJ001
高纯铜Cu
——
99.999%
10g/瓶
询价现货——
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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。

GB/T 26303.3-2020《铜及铜合金加工材缺陷 第3部分:高纯铜缺陷》
标准名称及标准号GB/T 26303.3-2020,规定了高纯铜材料缺陷的分类、检测方法与判定规则
适用范围适用于纯度≥99.99%的高纯铜板、带、箔等加工材的表面及内部缺陷检测
核心检测方法金相显微镜法(晶界腐蚀观察)、扫描电镜-能谱联用法(夹杂物分析)、辉光放电质谱法(痕量元素检测)
检出限与定量限辉光放电质谱法对金属杂质的检出限≤0.1μg/g,定量限≤0.3μg/g
质控样品要求需同步测试GBW02133高纯铜标准物质,平行样品数量≥3个/批次
关键实验步骤样品需经硝酸-氢氟酸混合溶液预清洗,电解抛光处理时间控制在60±5秒,辉光放电参数稳定在5Pa/35W
特别说明检测环境需满足ISO 7级洁净度要求,样品储存需使用聚四氟乙烯材质容器
GB/T 5121.1-2008《铜及铜合金化学分析方法》
标准名称及标准号GB/T 5121.1-2008,涵盖铜及铜合金中多种元素的化学分析方法
适用范围适用于高纯铜中杂质元素含量在0.0005%~0.1%范围的检测
核心检测方法电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)、原子吸收光谱法(AAS)
检出限与定量限ICP-OES法对Ag、Fe、Pb等元素的检出限≤0.5mg/kg
质控样品要求每批次需加测2个空白样品和1个标准物质样品(如GBW02131)
关键实验步骤样品溶解需采用硝酸(1+1)低温消解,等离子体功率设定为1.2kW,雾化气流速0.7L/min
特别说明高纯铜检测需特别注意试剂空白控制,推荐使用MOS级硝酸
GB/T 32791-2016《金属材料 电感耦合等离子体质谱法》
标准名称及标准号GB/T 32791-2016,规范了金属材料中痕量元素的ICP-MS检测方法
适用范围高纯铜中ppt级痕量杂质元素的定量分析
核心检测方法四级杆电感耦合等离子体质谱法(ICP-QMS)
检出限与定量限对稀土元素的检出限可达0.01ng/g,定量限0.03ng/g
质控样品要求需采用基体匹配的标准物质,每10个样品插入1个质控样
关键实验步骤样品溶解需采用亚沸蒸馏硝酸,质谱仪需进行质量校正(Li、Co、Y、Ce、Tl混合调谐液)
特别说明需监测ArO+、ArCl+等干扰离子,推荐使用碰撞反应池技术

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