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铜粉_7440-50-8
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铜粉

H17293A-10g Copper {{goodObj.price > 0 ? '¥' + goodObj.price : '咨询'}} ¥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询 7440-50-8 10g {{goodObj.date}} 万佳 {{item.norm}} 99.95% {{inventory}}
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    H17293-25g | 99.9% metals basis,粒径<5mm

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铜粉介绍:
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标物编号产品名称CAS NO标准值规格价格库存有效期至
H17293A-10g
铜粉
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铜粉
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铜粉
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铜粉
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电解铜粉
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电解铜粉
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电解铜粉
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纳米铜粉
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纳米铜粉
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国家标准:GB/T 5121.1-2008 《铜及铜合金化学分析方法 第1部分:铜含量的测定》
标准名称及标准号 GB/T 5121.1-2008 《铜及铜合金化学分析方法 第1部分:铜含量的测定》
适用范围 适用于铜及铜合金(包括铜粉)中铜含量的测定,质量分数范围为96.5%~99.9%。
核心检测方法 电解法:通过恒电流电解分离铜,称量电极沉积物质量计算含量;
碘量法:硫代硫酸钠滴定法测定铜离子的含量。
检出限与定量限 电解法检出限为0.05%,定量限为0.1%;
碘量法检出限为0.005%,定量限为0.01%。
质控样品要求 需使用有证铜标准物质(CRM)进行校准;
每批次至少加入2个平行样,相对偏差≤0.2%。
关键实验步骤 1. 样品溶解:硝酸-氢氟酸体系消解铜粉;
2. 电解条件:电流密度0.5 A/dm²,电解时间2小时;
3. 终点判定:淀粉指示剂变浅蓝色为滴定终点。
特别说明 电解法不适用于含锡、锑的合金;
碘量法需严格控制溶液pH为3.0~4.0。
行业标准:YS/T 482-2005 《铜及铜合金分析方法 光电发射光谱法》
标准名称及标准号 YS/T 482-2005 《铜及铜合金分析方法 光电发射光谱法》
适用范围 适用于铜粉中铜及杂质元素(铅、铁、镍等)的快速定量分析。
核心检测方法 光电发射光谱法:通过激发样品产生特征光谱,比对标准曲线计算元素含量。
检出限与定量限 铜元素定量限为0.001%,杂质元素检出限为0.0005%~0.001%。
质控样品要求 需使用与样品基体匹配的光谱标样;
每20个样品插入1个控制样,RSD≤3%。
特别说明 需定期校准光栅和检测器;
样品表面需抛光至Ra≤0.8μm。

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