高纯氧气体标准物质_单标_基质类_标准物质_萘析商城

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高纯氧气体标准物质

GBW(E)061035

~~{{goodObj.price > 0 ? '￥' + goodObj.price : '咨询'}}~~

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萘析精选

99.995【物质的量分数(10-2)】/不确定度：0.003

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高纯氧气体标准物质介绍：

特征形态：气态
定值单位：南京特种气体厂有限公司#
定级证书量值信息：

	标准值	不确定度	单位	CAS	备注
高纯氧	99.995	0.003	物质的量分数(10^-2)

研制单位名称：南京特种气体厂有限公司#

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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用，不用于人体及临床诊断。

国家标准：《高纯氧》

标准名称	GB/T 14599-2008《高纯氧》

适用范围	适用于纯度≥99.995%的氧气，用于电子工业、医疗、科研等领域的高纯度气体质量判定。

核心检测方法

气相色谱法（GC）为主，结合红外光谱法检测微量杂质（如CO、CO₂、CH₄等）。

检出限与定量限

杂质组分检出限≤0.1 ppm，定量限≤0.5 ppm（以氮气为载气时）。

质控样品要求

需使用经认证的混合标准气体，杂质浓度覆盖检测范围，定期进行校准验证。

关键实验步骤

1. 气路系统检漏；2. 色谱柱活化；3. 标准曲线绘制；4. 样品进样与分析；5. 数据重复性验证。

特别说明	需严格控制实验室环境湿度（≤40% RH），避免水蒸气干扰检测结果。

行业标准：HG/T 4845-2015《电子工业用高纯氧气》

标准名称	HG/T 4845-2015《电子工业用高纯氧气》

适用范围	针对半导体制造、液晶面板生产等电子工业领域，氧气纯度≥99.9995%。

核心检测方法

质谱法（MS）检测超痕量杂质，结合氦离子化气相色谱法（PDHID）提高灵敏度。

检出限与定量限

杂质检出限≤0.01 ppm，定量限≤0.05 ppm（需使用高纯氦气作为载气）。

质控样品要求

须采用NIST可溯源标准气体，浓度梯度包含0.05 ppm至1 ppm范围。

关键实验步骤

1. 仪器本底值测定；2. 多级冷阱除水；3. 动态稀释法配制标气；4. 峰面积积分校正。

特别说明	禁止使用铜质管路，防止金属离子污染；检测报告需包含不确定度评估。

以上信息仅供参考，请以相应标准的原文为准！