0.2微米羧基修饰微粒
-
0.3微米羧基修饰微粒
HM3105 | 10%
-
0.4微米羧基修饰微粒
HM3107 | 10%
-
0.2微米羧基修饰微粒
HM3103 | 10%
-
2微米羧基修饰微粒
HM3113 | 10%
-
0.5微米羧基修饰微粒
HM3109 | 4%
-
0.2微米羧基修饰微粒
HM3102 | 10%
-
0
ZB-500384 | 0.95
-
0.2微米羧基修饰微粒
HM3103 | 10%
-
0.8微米羧基修饰微粒
HM3111 | 4%
-
2微米羧基修饰微粒
HM3113 | 10%
-
0.2微米羧基修饰微粒
HM3102 | 10%
-
0
ZB-500384 | 0.95
-
玻璃微珠粒度标准物质
BW033065 | 65μm
-
玻璃微珠粒度标准物质
BW033055 | 55μm
-
玻璃微珠粒度标准物质
BW033035 | 35μm
-
偏硅酸溶液标准物质(以H2SiO3计)
SDS134951 | 1000μg/mL)
-
铂钴色度溶液标准物质
BW013329 | 15度



货号:HM3104
CAS号:
规格:15mL
浓度:10%
您正在浏览的产品:0.2微米羧基修饰微粒
手机版:0.2微米羧基修饰微粒
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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。
2. 光谱采集:在4000-400 cm⁻¹波数范围内扫描,分辨率不低于4 cm⁻¹。
3. 数据分析:通过特征峰(如羧酸根C=O伸缩振动峰~1700 cm⁻¹)判定表面修饰效果。
定量限:需结合标准曲线法,建议含量≥1%时进行半定量分析。
2. 标准物质:含已知羧酸根修饰量的同类纳米颗粒(如0.5%、2%、5%梯度)。
3. 重复性要求:同一样品三次测量峰面积相对标准偏差(RSD)≤10%。
2. 背景扣除:采集样品光谱前需扣除空气背景或溶剂干扰。
3. 基线校正:采用多点基线法消除非特征吸收干扰。
2. 高浓度样品可能导致光谱信号饱和,建议通过稀释或减少压片厚度调节。
3. 本方法不适用于非晶态或表面修饰层厚度<1 nm的微粒体系。
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