0.4微米羧基修饰微粒
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0.3微米羧基修饰微粒
HM3105 | 10%
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0.2微米羧基修饰微粒
HM3104 | 10%
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4微米羧基修饰微粒
HM3115 | 4%
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0.4微米羧基修饰微粒
HM3107 | 10%
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0.3微米羧基修饰微粒
HM3106 | 10%
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0.5微米羧基修饰微粒
HM3110 | 10%
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0.04微米羧基修饰微粒
HM3101 | 4%
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0.2微米羧基修饰微粒
HM3104 | 10%
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4微米羧基修饰微粒
HM3115 | 4%
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0.4微米羧基修饰微粒
HM3107 | 10%
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0.04微米羧基修饰微粒
HM3101 | 4%
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0
ZB-500384 | 0.95
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甲醇中5种有机磷农药混合(马拉硫磷、对硫磷、甲基对硫磷、敌敌畏、乐果)
GSB 07-1401-2001 | 敌敌畏：66.9µg/mL 乐果：60.4µg/mL 甲基对硫磷：60.1µg/mL 马拉硫磷：61.6µg/mL 对硫磷：61.1µg/mL
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胶体悬浮液Zeta电位标准物质
BW030206 | 60mV 0.02%固含量
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35μm微粒标准物质
GBW(E)120044（颗粒计数） | 2000-3000粒/mL
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200μm微粒标准物质
BW031320（颗粒计数） | 400-600粒/100mL定制
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玻璃微珠粒度标准物质
BW033065 | 65μm
货号：HM3108
CAS号：
规格：15mL
浓度：10%
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GB/T 30448-2013 纳米材料表面羧基含量测定 化学滴定法
适用于粒径范围在10 nm~10 μm的羧基修饰纳米材料及微粒的表面官能团含量测定，包括聚合物、无机材料等表面修饰体系。
采用酸碱反滴定法：将羧基修饰微粒与过量NaOH反应，剩余碱液用HCl标准溶液反滴定，通过电位突跃判定终点，计算活性羧基含量。
羧基摩尔浓度检出限为0.05 mmol/g，定量下限为0.2 mmol/g。需保证样品量≥50 mg且羧基密度＞0.5 groups/nm²。
每批次须包含：空白对照（未修饰基质）、已知羧基含量（0.8±0.1 mmol/g）的标准物质，平行样数量≥3个，RSD应小于8%。
1. 样品预处理：超声分散30 min
2. 氮气保护下进行水解反应
3. 电位滴定仪需预热校准
4. 严格控制反应温度(25±0.5)℃
需注意粒径分布对检测结果的影响，D90≤5 μm时无需离心处理。当样品含氨基等干扰基团时，应采用红外光谱法辅助验证。
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