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30nm二氧化硅粒度标准物质_
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30nm二氧化硅粒度标准物质

BW030106 {{goodObj.price > 0 ? '¥' + goodObj.price : '咨询'}} ¥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询 10mL {{goodObj.date}} 海岸鸿蒙 {{item.norm}} 固含量1% {{inventory}}
30nm二氧化硅粒度标准物质介绍:

货号:BW030106
CAS号:
规格:10mL
浓度:固含量1%

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粒度分析 光子相关光谱法
适用范围 适用于1 nm至3 μm范围内纳米颗粒的粒度分析,特别针对二氧化硅等无机纳米材料的分散体系检测。
核心检测方法 基于动态光散射原理,测量颗粒布朗运动引起的散射光强度波动,通过自相关函数计算流体力学直径。
检出限与定量限 体积浓度检测下限为0.001%(v/v),定量限为0.005%(v/v),最小可识别粒径为仪器噪声水平的2倍标准差。
质控样品要求 需使用经认证的纳米级单分散标样(如30±2 nm二氧化硅)进行仪器校准,样品折射率与分散介质差异需>0.1。
关键实验步骤 1. 样品前处理:超声分散15分钟;2. 散射角设置为90°;3. 温度控制在25±0.5℃;4. 采集时间不少于180秒。
特别说明 对于多峰分布样品需增加173°散射角检测,高浓度样品需稀释至透光率>85%后测量。
GB/T 29022-2012 粒度分布 动态光散射法
适用范围 专门针对纳米材料(1-1000 nm)的粒度分布检测,适用于胶体溶液、乳浊液等液态分散体系。
核心检测方法 采用非侵入背散射光学系统,通过斯托克斯-爱因斯坦方程计算颗粒扩散系数,反演粒度分布。
检出限与定量限 数均直径检测限为仪器分辨率(通常3 nm),相对标准偏差要求≤2%(NIST标准物质验证)。
质控样品要求 每批次检测需包含空白对照和已知粒径的验证样品,建议使用30nm、100nm双标样进行系统验证。
关键实验步骤 1. 样品过滤(0.22 μm滤膜);2. 粘度校正;3. 测量次数≥11次;4. 采用CONTIN算法进行数据解析。
特别说明 禁止使用离心预处理,对于Zeta电位>±30 mV的样品需记录电泳迁移率数据。
GB/T 15445.2-2020 粒度分布的表示方法
适用范围 规定纳米材料粒度分布的数据处理规范,包括D10、D50、D90等特征参数的数学表征方法。
核心检测方法 要求采用体积分布加权算法,对于多模态分布必须提供峰分离度参数,并注明拟合优度(R²>0.98)。
质控要求 粒度分布曲线的半峰宽不得超过标称值的15%,批次间D50值相对偏差应≤3%。
数据报告 必须包含:测量温度、介质黏度、分布模型(如Rosin-Rammler模型)、置信区间(95%概率)。
粒度分析 激光衍射法
适用范围 适用于0.1-3000 μm颗粒测量,可作为纳米颗粒团聚状态的辅助表征手段。
方法对比 需与动态光散射法数据交叉验证,对于<100 nm颗粒需注明米氏理论修正系数。
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