硅钢光谱分析质量控制样品
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纯钴光谱分析质控样品
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纯铁光谱分析质控样品
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光谱控制样品
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硅钢光谱分析用质量控制样品
NCS012092 | 见证书
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硅钢光谱分析质量控制样品
NCS012092a | 见证书
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硅钢光谱分析质量控制样品
NCS012092c | 见证书
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硫质控样品
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硅质控样品
GBQC(E)01-0049 | 4.5mg/L
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光谱控制样品
NCS-RH18 | 见证书
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硅
W10116-50g | ≥99% metals basis, powder,−325 mesh
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硅钢光谱分析质量控制样品
NCS012092a | 见证书
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硅钢光谱分析质量控制样品
NCS012092c | 见证书
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土壤中有效磷分析质控样品
NCS192387 | 见证书
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不锈钢光谱分析标准化样品
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土壤中硫酸根分析质控样
NCS204223-1 | 0.259g/kg
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硅钢光谱分析质量控制样品
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高镍生铁光谱分析质量控制样品
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本公司销售的所有产品仅供实验科研使用,不用于人体及临床诊断。
1. 样品作为电极在氩气环境中产生高压火花放电
2. 原子被激发后产生特征发射光谱
3. 分光系统按波长分离特征谱线
4. 光电检测器测量谱线强度
5. 通过校准曲线将强度值转换为元素含量
- 硅(Si):定量限0.01%
- 铝(Al):检出限0.0005%
- 碳(C):定量限0.002%
- 锰(Mn):定量限0.005%
实际检测限取决于仪器性能、基体效应和样品制备质量
2. 定值要求:使用有证标准物质(CRM),证书需包含不确定度信息
3. 含量梯度:至少3个浓度梯度覆盖待测元素的全范围
4. 物理状态:块状样品尺寸≥Φ30mm×15mm
5. 均匀性:经均匀性检验,表面无气孔夹杂
2. 仪器校准:每日使用高/低标样建立校准曲线,R²≥0.999
3. 预激发处理:氩气冲洗后预燃5-10秒消除夹杂物影响
4. 数据采集:每个样品至少3次有效激发,剔除异常值
5. 漂移校正:每10个样品插入质控样校正仪器漂移
6. 结果验证:使用独立来源的验证样品比对分析
2. 干扰校正:Fe 271.4nm谱线作为内标校正基体效应
3. 氩气纯度:≥99.999%,含氧量≤5ppm
4. 环境控制:温度(23±2)℃,湿度≤60%RH
5. 异常结果处理:当质控样偏差>2σ时需重新校准
6. 标准更新提示:注意GB/T 4336-2016替代了2002版方法
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