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硅单晶电阻率标准物质_
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硅单晶电阻率标准物质

GBW13702 {{goodObj.price > 0 ? '¥' + goodObj.price : '咨询'}} ¥{{goodObj.sell_price || 0}} 咨询 套/4片 {{inventory}} {{goodObj.date}} 中国计量院 {{item.norm}}

硅单晶电阻率标准物质介绍:


使用注意事项:使用时用镊子取出标准物质片,放置测量样片台上
特征形态:固态
基体:硅单晶材料
主要分析方法:
定值单位:中国计量科学研究院
规格:套/4片
定级证书量值信息:
标准值 相对不确定度(%) 单位 CAS 备注
电阻率标称值 0.1 1.5 电阻率标称值(·cm)
径向不均匀度(%)(距边缘6mm以内) 4 1.5 径向不均匀度(%)

保存条件:
保存条件:干净通风干燥的地方保存
研制单位名称:中国计量科学研究院

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手机版:硅单晶电阻率标准物质

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标准名称

标准名称 GB/T 1551-2016《硅单晶电阻率测定方法》

适用范围

适用范围 适用于直拉法或区熔法生产的硅单晶棒、硅片及硅外延片的电阻率检测,测量范围0.001 Ω·cm~100 Ω·cm,温度条件为23±1℃。

核心检测方法

核心方法 四探针法:通过四根等间距探针施加电流并测量电压差,根据范德堡公式计算电阻率。要求探针压力≤500 mN,间距误差≤±0.5%。

检出限与定量限

技术指标 检出限(LOD)为0.0005 Ω·cm,定量限(LOQ)为0.001 Ω·cm。重复性要求RSD≤2%,再现性偏差≤5%。

质控样品要求

质控要求 需使用NIST标准物质进行校准,质控样电阻率需覆盖测试范围。每批次测试插入2个质控样,偏差超过±3%需重新校准。

关键实验步骤

操作流程 1. 样品表面乙醇清洁
2. 恒温处理30分钟
3. 探针压力校准
4. 五点法测量(中心及四角)
5. 温度补偿计算

特别说明

注意事项 1. 高阻样品(>10 Ω·cm)需屏蔽电磁干扰
2. 测量n型硅时需考虑少子注入效应
3. 厚度<0.5 mm样品需修正边缘效应

以上信息仅供参考,请以相应标准的原文为准!

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