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低合金铸铁

GBW01132b

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钢研纳克

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低合金铸铁介绍：

产品组成：

编号	C	Si	Mn	P	S	Cr	Ni	Cu	Ti	Mo
GBW01132b	3.9	0.86	1.88	0.028	0.012	1.83	0.808	1.34	0.027	0.095

编号	V	B	Sn	W	Mg	La	Ce
GBW01132b	0.085	0.07	0.101	0.0066	0.025	0.013	0.032

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低合金铸铁检测相关国家标准解读

GB/T 223.5-2008 钢铁酸溶硅和全硅含量的测定还原型硅钼酸盐分光光度法
适用范围	适用于低合金铸铁中0.010%～1.00%酸溶硅及全硅含量的测定，涵盖镍、铬、钼等合金元素的干扰消除方法。
核心检测方法	采用分光光度法原理：试样经酸分解后，硅转化为正硅酸，与钼酸铵生成硅钼黄络合物，用硫酸亚铁铵还原为硅钼蓝，在波长810nm处测量吸光度。
检出限与定量限	方法检出限(LOD)为0.003%，定量限(LOQ)为0.010%，满足低合金铸铁中微量硅的精确测定要求。
质控样品要求	需使用国家一级标准物质（如GBW01302a低合金铸铁标样）进行校准曲线验证，每批次检测需带2个已知含量的控制样品，偏差需＜5%
关键实验步骤	1. 试样用硝酸-氢氟酸分解，硼酸络合过量氟离子 2. 控制显色酸度在pH0.9-1.1范围 3. 沸水浴加热30秒形成硅钼黄 4. 草酸掩蔽磷砷干扰后立即还原 5. 显色后10-30分钟内完成吸光度测定
特别说明	氢氟酸处理需在聚四氟乙烯器皿中进行；高铬样品需增加氧化剂保证硅完全溶解；温度波动需控制在±2℃

GB/T 9441-2009 球墨铸铁金相检验
适用范围	适用于含镍、钼、铜等合金元素的球墨铸铁（包括低合金球铁）的显微组织评定，覆盖石墨形态、球化率、珠光体含量等关键指标。
核心检测方法	采用光学显微镜法：制备金相试样→侵蚀(4%硝酸酒精)→在100×下评估球化率，400×下分析基体组织→对照标准图谱进行评级。
检出能力	可识别≥2μm的显微组织特征，球化率分级精度达5%，珠光体含量测定误差＜3%
质控样品要求	每批样品需制备参比样块（与待测件同炉浇注），使用GBW03201球铁金相标样校准显微镜系统
关键实验步骤	1. 取样位置需包含铸件关键截面 2. 研磨至Ra≤0.1μm镜面 3. 侵蚀时间精确控制（通常8-15秒） 4. 按六点法选取视场 5. 球化率判定需排除边界石墨
特别说明	合金元素超过3%时需用苦味酸侵蚀；厚大断面样品需评估石墨畸变；蠕墨铸铁不适用本标准

GB/T 231.1-2018 金属材料布氏硬度试验第1部分：试验方法
适用范围	适用于低合金铸铁件（HBW范围50-650）的硬度测试，特别规定铸件表面处理要求和异形样品支撑方法。
核心检测方法	静态压入法：选用硬质合金球压头（直径2.5/5/10mm），施加规定试验力（187.5-3000kgf），保持10-15秒后测量压痕直径。
精度要求	压痕测量装置分辨率需达0.001mm；同一试样硬度波动范围≤5%HBW；标准块均匀度≤3%
质控样品要求	每日用标准硬度块（如GBW13297）校准设备，选择硬度值接近待测样的三块标样（低/中/高值）进行验证
关键实验步骤	1. 测试面粗糙度Ra≤1.6μm 2. 压痕中心距边缘＞2.5d 3. 相邻压痕间距＞3d 4. 加载速率0.5-1.5mm/min 5. 压痕直径测量取正交方向平均值
特别说明	珠光体铸铁需注明试验力保持时间；薄壁件需折算厚度效应；球墨铸铁压痕边缘需无裂纹产生

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